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德国zestron ATRON® AP 125A碱性水基除助焊剂清洗剂

德国zestron ATRON® AP 125A碱性水基除助焊剂清洗剂

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产品详情

清洗浓度:15-20% 清洗时间:20-35分钟 清洗方式:喷淋清洗

ATRON® AP 125A

用于先进封装的碱性水基除助焊剂清洗剂

助焊剂清洗剂

ATRON® AP 125A是一款水基型清洗剂,专门研发用于去除各种封装类产品的水溶性助焊剂,如倒装芯片,包括2.5D/3D TSV堆叠、BGA和SiP等,同时能为底部填充、引线键合和注塑成型等后道工艺提供绝佳的表面条件。该清洗剂与敏感金属有高水准的材料兼容性,特别适用于低底部间隙和窄植球间距类产品清洗。推荐ATRON® AP 125A 应用于在线和离线喷淋式清洗工艺。

相较于其他清洗液的优势:

  • ATRON® AP 125A 对去除倒装芯片、BGA和SiP上的水溶性助焊剂有卓越的清洗效果
  • ATRON® AP 125A 在元器件底部极易漂洗,为底部填充、引线键合和注塑成型等后道工序提供最佳的状态,以此改善填充空洞、分层和键合质量
  •  ATRON® AP 125A 适用于带有低底部间隙(<50μm)、窄植球间距(<150μm) 以及极小植球(20-80μm)的封装器件
  • ATRON® AP 125A可与任何典型的封装材料兼容,特别是敏感金属,如铝、铜以及有机/无机的芯片钝化层
  • ATRON® AP 125A无闪点,为操作人员提供良好的健康和安全性保证

应用领域

去除污染物

清洗工艺

清洗技术

  • 离线喷淋清洗设备
  • 在线喷淋清洗设备

深圳俊基瑞祥科技有限公司
深圳俊基瑞祥科技有限公司
企业已认证
电    话: 13902983965
手    机: 13902983965
邮    箱: 911102692@qq.com
所在地: 罗湖区建设路东方广场1807室

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