清洗浓度：15-25% 清洗时间：15-30分钟 清洗方式：常温浸泡|其它

VIGON® US

用于去除助焊剂残留物的水基清洗液

VIGON® US 是特别设计应用于超声波式，底部喷流式和离心式清洗设备中的水基清洗液。基于ZESTRON公司专利的 MPC微相清洗技术，VIGON® US可以清除电子组装件，倒装芯片和CMOS器件上的各种助焊剂残留物。

相较于其他清洗液的优势：

• VIGON® US工艺窗口很宽，可以轻松去除各种锡膏和助焊剂残留物
• VIGON® US无闪点，应用中不需要额外的防爆措施
• VIGON® US特别设计用于浸入式清洗设备
• VIGON® US的配方中不含有表面活性剂成分， 因此易于漂洗，不会在被清洗件表面有残留物，确保清洗后的离子污染度很低
• VIGON® US的高清洗负载能力，保证了其较长的使用寿命
• VIGON® US特别适用于针对细间距和低底部间隙元器件的清洗应用
• VIGON® US可以有效清除倒装芯片和CMOS器件上的粘性助焊剂残留，确保后续的底部填充工艺不会有气泡
• VIGON® US可以有效清除CMOS成像器件上的颗粒物，增强图形分辨效果及降低像素点缺失的缺陷
• 气味淡

应用领域

去除污染物

清洗工艺

清洗技术

• PCBA清洗
• 低底部间隙清洗
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